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holmarc Bench Top Rubbing Machine

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  • 產(chǎn)品名稱:holmarc Bench Top Rubbing Machine
  • 產(chǎn)品型號:HO-IAD-BTR-01
  • 產(chǎn)品展商:holmarc
  • 產(chǎn)品文檔:無相關(guān)文檔
簡單介紹

已為LCD研發(fā)實(shí)驗(yàn)室開發(fā)了摩擦機(jī)。該系統(tǒng)旨在跟蹤聚酰亞胺上的凹槽以使液晶分子定向。用深度為幾埃的專用摩擦布制成凹槽。基板由真空吸盤保持,真空吸盤包括真空泵并與系統(tǒng)集成在一起??梢匝b載的玻璃基板的*大尺寸為100毫米x 100毫米?;迮c真空吸盤一起被固定在旋轉(zhuǎn)臺上,以便可以旋轉(zhuǎn)并以0到180度之間的任意所需角度進(jìn)行定位,以適應(yīng)各種摩擦方向。

產(chǎn)品描述


已為LCD研發(fā)實(shí)驗(yàn)室開發(fā)了摩擦機(jī)。該系統(tǒng)旨在跟蹤聚酰亞胺上的凹槽以使液晶分子定向。用深度為幾埃的專用摩擦布制成凹槽。基板由真空吸盤保持,真空吸盤包括真空泵并與系統(tǒng)集成在一起。可以裝載的玻璃基板的*大尺寸為100毫米x 100毫米。基板與真空吸盤一起被固定在旋轉(zhuǎn)臺上,以便可以旋轉(zhuǎn)并以0到180度之間的任意所需角度進(jìn)行定位,以適應(yīng)各種摩擦方向。

該系統(tǒng)已開發(fā)為獨(dú)立單元,其中輥的速度和基材的速度可以改變。

 可編程功能

     基材    的移動(dòng)范圍

移動(dòng)速度(基材臺)

     重復(fù)次數(shù)/操作持續(xù)時(shí)間


       基板支架
    a)用于基板移動(dòng)的電動(dòng)線性平臺
    b)由步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)
    c)旅行     80毫米
    d)*低速度     0.05毫米/秒
           *大速度     9毫米/秒
    e)可移動(dòng)基板的*大尺寸     100毫米x 100毫米
    f)基板固定在可旋轉(zhuǎn)+/- 45度的旋轉(zhuǎn)臺上
       摩擦輪執(zhí)行器     無刷直流電動(dòng)機(jī),帶速度控制
           *大速度     3000轉(zhuǎn)
           *低速度     0轉(zhuǎn)
       在LCD屏幕上顯示速度
       通過旋鈕控制主軸速度
       輸入     230伏交流電
       系統(tǒng)可以在獨(dú)立模式下使用

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